구 분 | 자 외 선 | 염 소 | 염 소 + 탈 염 소 | 오 존 | 이 산 화 탄 소 |
원 리 | 254.7nm파장(저압램프) 또는 200~400nm 파장(중압램프)을 이용하여 미생물을 살균하는 공정 | 염소를 주입하여 차아염소수 (HOCI) 및 락스(OCI-)의 소독을이용 | 염소시설 후단에 반응조를 설치하여 Sulfur Dioxide를 첨가(혼합) 하여 잔류염소를 환원시켜 제거하는 공정 | 현장에서 오존을 발생하여 반응조에 주입 | 현장에서 CIO를 발생시켜 염소와 동일한 방법으로 주입 |
장 점 | 잔류성이 없어 생태계 피해 최소화 | 가격저렴 | 잔류하는 염소를 제거하여 염소가 생태계에 미치는 영향을 최소화 | 염소부산물 생성이 없음 | 염소보다 소독력이 강함 |
단 점 | 수질이 탁한경우 처리효율 저하 | 온도에 큰 영향을 미치고 다른 공정(OZONE, UV)에 비해 소독력이 약함 탈염소공정 필요염소 부산물(THM, TAA) | 투자비가 염소 공정에 비해 2~3배정도 고가이고 탈염소제의 가격은 염소가격의 약2배 염소반응에 의해 생성된 염소부산물(THM불가능) 과잉의 탈염소제가 투입되면 용존산소를 감소시키며 잔류Sulfur Dioxide가 남음 | 불안정함, 미생물의 재증식 가능 | 불안정함 독성을 생성 |
Model | Flow Rate | connections | Approx Dimensions(mm) | ||
㎡/hr | IN / OUT | A | B | C(A) | |
PWS-301 | 1 | 15 | 1,050 | 600 | 65 |
PWS-801 | 3 | 25 | 100 | ||
PWS-802 | 6 | 40 | 125 | ||
PWS-803 | 9 | 150 | |||
PWS-804 | 12 | 50 | |||
PWS-805 | 15 | 200 | |||
PWS-806 | 18 | ||||
PWS-807 | 21 | 65 | 250 | ||
PWS-808 | 24 | ||||
PWS-809 | 27 | 80 | |||
PWS-810 | 30 | 300 | |||
PWS-501 | 5 | 32 | 1,860 | 1,300 | 65 |
PWS-502 | 10 | 40 | 100 | ||
PWS-503 | 15 | 50 | 125 | ||
PWS-504 | 20 | 65 | 150 | ||
PWS-505 | 25 | 200 | |||
PWS-506 | 30 | 80 | |||
PWS-507 | 35 | 250 | |||
PWS-508 | 40 | 100 | |||
PWS-509 | 45 | ||||
PWS-510 | 50 | 300 | |||
PWS-511 | 55 | ||||
PWS-512 | 60 | 125 | |||
PWS-518 | 90 | 150 | 350 | ||
PWS-519 | 4 |